Este estudo avaliou o efeito da concentração de solvente na resistência coesiva de um adesivo experimental contendo um derivado do difeniliodônio. Uma blenda monomérica baseada em Bis-GMA, TEGDMA e HEMA foi utilizada como resina adesiva modelo. Foram avaliados dois sistemas de fotoiniciação: um sistema bináriocanforquinona (CQ) e etil 4-dimetilamino benzoato (EDAB)] e um sistema ternário [CQ, EDAB e hexafluorfosfato de difeniliodônio (DPI)]. Nestas resinas foram adicionadas diferentes concentrações de etanol, 0, 5, 10, 20, 30, 40% e teste de resistência coesiva foi utilizado para investigar o efeito deste solvente sobre as propriedades do material. A presença de solvente reduziu a resistência coesiva do polímero, independentemente do sistema de fotoiniciação utilizado. Além disso, o uso do sal de iodônio no sistema de fotoiniciação aumentou a resistência coesiva quando comparado com o sistema binário, e independentemente da concentração de solvente, a resistência coesiva dos polímeros contendo difeniliodônio foi superior à do sistema binário de fotoiniciação.
This study evaluated the effect of organic solvent concentration on the tensile strength for an experimental adhesive resin containing a ternary photoinitiator system. A monomer blend based on the Bis-GMA, TEGDMA and HEMA was used as a model dental adhesive resin. Two photoinitiation systems were used: a binary system camphorquinone (CQ) and ethyl 4-dimethylamine benzoate (EDAB)] and a ternary system CQ, EDAB and diphenyliodonium hexafluorphosphate (DPIHFP)]. Varied ethanol concentrations were added to the resins, viz. 0, 5, 10, 20, 30, 40 wt%. The ultimate tensile strength test was used to investigate the influence of the solvent amount on the resistance of resins. Furthermore, the use of iodonium salt in photoinitiation system increased the cohesive strength when compared with the binary system. Regardless of solvent concentration, the cohesive strength of polymers containing diphenyliodonium was higher than for the binary photoinitiator system.