RESUMO A utilização de gaiola catódica se apresenta com um grande potencial de deposição de filmes finos e espessos, seja em substrato de vidro ou em peças metálicas. São inúmeras as possibilidades dessa técnica. Neste trabalho, a descarga de plasma em gaiola catódica foi usada para deposição de filmes de nitreto de titânio em substrato de vidro. O objetivo foi o de comparar as propriedades dos filmes depositados com uso de duas gaiolas com tampas de espessuras diferentes. Para caracterização dos filmes foram feitas análises por difração de raios X, medidas de espessura por reflectometria, medidas de resistividade elétrica, transmitância e imagens das superfícies por microscopia eletrônica de varredura e análise da composição por EDS. A reflectometria mostrou que a taxa de deposição e a rugosidade dos filmes aumentaram com a utilização de tampa de maior espessura (10 mm). O filme depositado na atmosfera de 155 sccm de N2 , 95 sccm de H2 e pressão de 0,5 Torr apresentou baixa transmitância na região do vermelho e infravermelho próximo, tornando-o um candidato para ser utilizado como filtro de infravermelho.

ABSTRACT The use of cathodic cage contributes for thin and thick films deposition on glass substrate or over metal substrates. There are many possibilities in using this technique. Into this work, the discharge of plasma on cathodic cage was used for titanium nitrite films deposition on glass substrate. The aim was to compare the films properties with use of two different thicknesses of cover cages. The films characterization were made using X-Ray diffraction analysis, thickness measurements by reflectometry, electrical resistivity measurements, transmittance and images of surfaces by scanning electron microscopy and analysis of composition by EDS. Reflectometry analysis had showed that deposition rate and surface films roughness had increased with use of a thicker cover cage (10 mm of thickness). The film deposited in the atmosphere containing 155 sccm of N2, 95 sccm of H2 and pressure of 0.5 Torr had showed low transmittance in the region of the red and near infrared, indicating the use as IR filter.

Titanium nitride films were deposited on silicon by plasma discharge in cathodic cage with holes and without holes on the sides. Each film was deposited with a pressure of 253 Pa, treatment time of 2 h, and at diverse conditions of temperature and gas flow of N2 and H2. The electrochemical polarization and electrochemical impedance techniques were used to understand the effect on the electrochemical properties of these films in relation to the presence or absence of holes on the sides of the cathodic cage and to investigate the electrochemical behavior of the films formed, which presented as both capacitive and resistive for the conditionsanalyzed.